這麼做的效率無疑會高很多，
而且升級後的生產線，估計連解析專案都沒有，
因為裡面的大部分技術，康馳在解析光刻機的時候，就已經得到了，他本人擁有非常大的解釋空間。
唯一的缺點就是，需要他在接下的專案中，進行一定的混淆視聽，把這些拆分開的元件，神不知鬼不覺地摻到整個專案裡去。
嗯，
就是欺負嚴輝他們對光刻機沒啥研究，
到時候估計也是康馳讓他們幹什麼，他們就幹什麼，思考空間並不多。
至於光刻機最後的一個關鍵系統，則是承載矽片的雙工件臺系統。
它的工作原理很簡單，就是在光刻中不斷的挪動矽片的曝光部位，但其中的技術含量其實非常大。
因為這個工作平臺必須快、準、狠。
速度，決定了光刻機的效率，
移動太慢了，光刻機的產量就不行，
這就要求它，在高速移動後，還得迅速且精準地停下，
&n以內，
但凡偏差大一點，整個晶圓就直接報廢了！
這啥概念？
大概就是一輛高速行駛的汽車，突然緊急剎停，然後停下位置誤差還不能超過1毫米。
不過這個難點，在今年5月份的時候，剛好被鉿工大給搞定了，
他們研發出來的真空高速超精鐳射干涉儀，位移的解析度達到了驚人的5pm，位移誤差控制在了30pm！
&n才等於1nm！
&n的位移誤差，簡直牛逼到不行！
康馳簡直懷疑，他們是不是和自己一樣開了掛……
講真，華國能人還是挺多的，
如果不靠系統，康馳自己雖然也有一定的把握可以攻克這種技術，但時間就不知道要多久了……
所以康馳一直也不斷地在提醒自己，雖然系統確實好用，但自己學習和理解的腳步同樣不能停下。
這不但是為了在解析技術的時候，減輕自己的痛苦，免得突然暴斃，更是為以後萬一出現精通點不夠，需要自研的情況出現時，不至於兩眼一抹黑啥也幹不了。
總之EUV光刻機的大部分技術難點，其實華國都已經攻克或即將攻克了，只不過具體哪些能夠復刻落地量產，還是個未知數。
為了得到答案，康馳特地打了個電話給呂首長。
當聽到康馳問光刻機的事情，呂首長頓時就打起了精神，連忙問道：“你準備搞光刻機研發？”
“嗯，有這個想法。”