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第四十八章 光源樣品 (2 / 3)

許秋學會後,也如法炮製,拿來兩片圓形矽片,將它們掰成為小矽片。

兩人一共得到90餘片小矽片,做這次的樣品足夠了。

“接下來,將小矽片洗淨吹乾,清洗矽片的話有專門的工具。”

陳婉清拿來一個裝有塑膠支架的燒杯。

“把矽片一片片整齊擺在塑膠支架上,然後倒入溶液,用鋁箔把燒杯口封住,然後用超聲波清洗儀超聲。

溶液分別是去離子水、丙酮、異丙醇,各自超聲10分鐘,最後再用氮氣槍將矽片吹乾,放入培養皿中。”

“這和清洗玻璃基片的步驟也差不多啊,除了不用肥皂水以外。”許秋道。

“是呀,不過在用氮氣槍的時候要小心,矽片比ITO玻璃基片更容易飛掉。”陳婉清提醒道。

“好的。”許秋道:“對了,吳菲菲和段雲他們不需要做樣品嗎?”

“吳菲菲的三維鈣鈦礦材料,遇到氧氣會直接變質,沒辦法測試;

段雲主要做無機熱電材料,他在學校裡用XRD就可以測試了,不需要跑到光源去測試。”陳婉清道。

…………

有了學姐的提醒,許秋在吹乾矽片時,沒出現太大的失誤,只吹飛了一片。

然後,他和學姐一同討論要做哪些樣品。

P3HT的話,陳婉清有6個共混體系,3個單獨組分,共9種;

旋塗方法包括正常旋塗和噴塗,共2種;

每種再設定2組轉速;

一共36組條件。

PTB7TH體系,1個共混體系,2個單獨組分,共3種。

溶劑新增劑包含不新增和2種不同的體積分數,一共有3種;

退火和不退火,一共2種;

每種再設定2組轉速;

一共36組條件。

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