“所以，接觸式小組，你們要聯合和光刻膠小組合作。”
接觸式光刻技術是指光刻膠與掩膜接觸後受光刻光照射的技術。
非接觸式光刻技術則是光刻膠與掩膜之間空氣或真空隔開後進行光刻。
“是，院長！”接觸式小組兩位研究員站起身道。
葉非點了點頭道：“坐吧！”
葉非道：“我瞭解到，前段時間炬光科技研發出一種技術，非常適合曝光系統。”
“光場勻化器，爆光系統小組，你們可以和炬光科技的人聯絡一下，看是否可以合作研究。”
“是，院長！”曝光小組的兩位組長道。
“光刻膠、接觸式和非接觸式光刻技術、曝光系統，這三個研究都是圍繞光刻膠研究的。”
“光刻機最難的便是誤差，我國這麼多年研究光刻機，在理論和技術上早已不是難點。”
“我聽說曾經國內有一名大學生，在大學宿舍內，造出了一臺光刻機。”
“雖然這臺光刻機在製造精度上，沒有達到高製程工藝的水平。”
“但是，從這可以看出，我國製造光刻機並不是天方夜譚。”
“但我國之所以無法造出光刻機，難就難在誤差這上面。”
眾人聽到這話，心中點頭。
確實如此，整個半導體產業鏈裝置，技術的提升，其實就是在不斷縮小製造的誤差。
好的光刻機制造出的晶片和差的光刻機制造出的晶片。
外觀上來看，差異並不大。
但細緻入微的觀察，它們的電晶體排列還是有一些差異的。
正是這一些差異，使得晶片的質量差距很大。
畢竟，奈米級晶片，指甲蓋大小的晶片上，卻擁有上百億數量的電晶體。
如何讓這些電晶體按照晶片設計圖紙上的設計，完成的呈現出來。
這就需要對製造過程中的高精度把控。
葉非道：“所以，光刻機的調節系統和隨機誤差控制，是光刻機最難的部分，也是最核心部分。”
“這兩個研究，我會加入進去一起研究。”
調節系統小組和隨機誤差控制小組的兩個小組組長，聽到這話，心中有一些安心。
有葉非加入進來，相信他們的研究可以輕鬆許多。
“散會吧，各自回去準備，開始研究。”
說完，葉非走出會議室。
“葉院長！”葉非正要走進自己的辦公室，曲廣復從他的身後趕來。